삼성전자가 극자외선(EUV) 노광 기술을 D램 양산 라인에 접목한다. 파운드리 분야에선 EUV 노광 기술로 양산 제품이 출하된 바 있으나 메모리 업계에선 이번이 첫 적용이다.EUV 기술이 적용되는 패터닝 공정에선 여러 회에 걸쳐 새겨야 했던 회로를 한 번에 그리는 것이 가능하다. 전문가는 기술 적용이 성공적으로 이뤄지고, 고도화 과정을 거치면 원가를 보다 낮출 수 있다고 설명했다.12일 업계에 따르면 삼성전자는 오는 9월 3세대 10나노급 D램인 1z 제품 양산에 돌입한다. 이 제품은 EUV가 아닌 기존 불화아르곤(ArF) 액침(液


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