미니 4LPE 수율 저하 주범
- 흡혈귀왕
- 조회 수 1000
- 2021.11.13. 13:35
4LPE가 5LPE 대비 M2, M3 사이즈 줄어든거 외에도
EUV 듀얼패터닝
CB Over RX
라는 두 기술이 적용되었습니다.
둘다 성능저하없이 성능을 유지하면서
셀 면적을 줄이고 밀도를 높이는 기술인데
상당히 고난이도 기술입니다.
성능 저하 없이 면적을 줄이고 밀도 올리는게
바로 반도체 기술력이기때문이죠...
문제는 저 EUV듀얼패터닝과 CB Over RX는
TSMC의 경우 5나노 공정부터 적용되었습니다 ㅠㅠ
이게 나쁘게 말하면
TSMC 5/4나노 공정과 동일 난이도에서
삼성파운드리는 허덕이고있다란 소리입니다 ㅠㅠ
댓글
tsmc와 삼성의 손기술 차이가 저기서 나네요