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반도체 EUV 기술 글로벌 컨퍼런스 안내 : 12월 22일 포스코타워 역삼 3층

반도체는 나노 단위의 회로 선폭을 좁히며 발전해 왔습니다. 초미세 공정을 구현하려면 회로에 패턴을 그리는 노광 공정 기술이 개선되어야 합니다. 이를 구현하기 위해선 노광장비 성능이 높아져야 합니다.

 

노광장비의 성능은 더 미세하게 회로를 그릴 수 있는 해상력(resolution)에 달려 있습니다. 해상력을 높이려면 노광원 파장(λ), 공정변수(K1), 렌즈 수차(NA) 가운데 한 가지 이상을 개선해야 합니다. EUV는 이 가운데 노광원 파장을 선택한 경우입니다.



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