○대만 보도, 삼성전자 3나노 수율 고객사 기준 충족 못 시켜- 대만 디지타임스가 삼성전자 GAA 적용 3나노 수율이 목표치에 한참 못 미친다고 보도했음.- 삼성전자는 현재 3나노 GAA 공정 수율 향상에 힘쓰고 있으나, 이 공정 수율은 이제 막 10~20%에 도달했음. 4나노 수율도 30~35%에 그친 상황.- 시장 소식통은 삼성전자의 1세대 3나노 GAA 공정은 자체개발 칩에 우선 적용되고 외부 팹리스 공급은 하지 않을 것이라고 내다봤음. 2세대 3나노 공정은 내년부터 양산해 외부 팹리스 업체에 공급할 것이라고 말했음.

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