극미세공정 구현을 위한 핵심 장비인 네덜란드 ASML의 차세대 'High-개구수(NA) 극자외선(EUV)' 장비 대부분을 내년 상반기까지 미국 인텔이 대부분 가져가는 것으로 나타났다. 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업은 빨라야 내년 하반기에나 이 장비 도입이 가능할 전망이다. ASML은 1년에 5~6대의 High-NA 장비를 양산하는 것으로 알려졌다. 

7일 업계에 따르면 올해 ASML이 만드는 High-NA 장비 5대가량이 인텔에 들어갈 예정이다. ASML이 연간 생간 가능한 High-NA 장비가 5~6대인 걸 감안하면 사실상 인텔이 초도물량을 모두 가져가는 셈이다. 이에 따라 삼성전자와 SK하이닉스는 내년 하반기 ASML의 High-NA EUV 장비 도입을 준비 중인 것으로 알려졌다.