SK하이닉스가 중국 우시(無錫)에서 18일 확장팹(C2F) 준공식을 개최했다고 밝혔다. 기존 D램 생산라인 C2를 확장해 미세공정 전환에 따른 생산공간을 확보할 계획이다.준공식 행사에는 리샤오민(李小敏) 우시시 서기, 궈위엔창(郭元强) 강소(江苏)성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사, 고객 및 협력사 대표 등 약 500명이 참석했다.C2F는 건축면적 5만8000㎡(1만7500평, 길이 316m, 폭 180m, 높이 51m)의 단층 팹이다. 일부 클린룸 공사와 장비입고가 완료돼 D램 생산을 시작했다. 추가


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