소식 "내년 D램 생산에 극자외선 공정 도입…낸드플래시 성능 향상"

신규유저
조회 수 190
2020.10.07. 11:20

7일 업계에 따르면 대만 시장정보업체 트렌드포스는 2021년 기술·산업 트렌드 10대 전망 중 하나로 반도체 D램 EUV 공정 도입과 낸드플래시 적층(積層) 기술 발전을 꼽았다.

트렌드포스는 "3대 D램 제조사인 삼성전자·SK하이닉스·마이크론은 3세대 10나노급(1z), 4세대 10나노급(1a) 미세공정 기술뿐 아니라 2021년부터는 삼성을 필두로 EUV 시대에 공식 진입할 것"이라고 예상했다.

https://www.yna.co.kr/view/AKR20201006173800003?input=1195m

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