삼성전자, TSMC 등 주요 반도체 기업들이 EUV(극자외선) 노광장비 도입에 나서면서, EUV 장비를 구현하는 핵심 소재로 ‘탄산가스(CO2)’가 주목받고 있다. 기존 ArF나 KrF 공정에서 포토 장비에 사용되는 광원을 만들기 위해선 네온가스가 활용됐다. 하지만 EUV 공정에서 광원을 만들기 위해 필요한 핵심 소재는 탄산가스다. 그동안 반도체 공정에서 주로 세정용으로 쓰였던 탄산가스가 고부가가치 소재로 진화하고 있는 셈이다. 26일 반도체 업계에 따르면 EUV 노광장비 사용량이 늘어나면서 반도체 업계에서 EUV 광원으로 활용되는


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