삼성전자와 SK하이닉스 등 반도체 소자기업들이 극자외선(EUV) 장비 도입을 늘리면서 고순도 탄산가스(CO2) 사용량이 증가할 것이라는 전망이 나왔다. 고순도 탄산가스는 EUV 공정에서 광원을 만드는 필요한 핵심 소재다.

6일 업계에 따르면 노광 공정용 고순도 탄산가스 수요가 증가하고 있다. 삼성전자와 SK하이닉스 등 기업의 10nm급 5세대(1b) D램 양산 영향이다. 삼성전자와 SK하이닉스의 주력 D램인 1a,1b 제품의 경우 EUV 레이어가 4~5개가량이다. EUV가 첫 도입된 1z D램은 EUV 레이어가 1개였다. 

삼성전자는 지난 1월 진행한 2023년 4분기 실적 컨퍼런스콜에서 "더블데이터레이트(DDR)5는 1a 전환 가속화에 힘입어 전체 서버 D램 내 비중이 과반을 초과하며, 전체 D램 비트그로스 성장 견인했다"고 언급한 바 있다. SK하이닉스도 2023년 4분기 실적 컨퍼런스콜에서 "우시(팹)는 궁극적으로 1a (D램) 전환을 통해 DDR5나 저전력(LP)DDR5 등의 제품 양산이 가능하도록 해서 활용 기간을 최대한 연장하는 방향으로 생각하고 있다"고 설명했다. EUV 공정 사용이 더 늘어난다는 이야기다.