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소식 삼성전자, 평택 2라인서 EUV 공정 10나노 D램 생산 시작

삼성전자가 반도체 공장 평택 2라인 가동을 시작한다고 30일 밝혔다. 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심적인 역할을 할 예정이다.

 

이 라인에서는 반도체 업계 최초로 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산된다.

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