TSMC의 의사결정이 탁월했다고 생각되네요.

루머상 

N3E에서 Logic Density 즉 Area 손해를 보는데...

자세한 내용은 하기 링크

https://meeco.kr/mini/34800323

이게 후속 공정을 개발하는데 Area를 열화시키는 방향으로간건

TSMC FinFET 개발과정 중 저는 처음 들어보는 것 같습니다.

그런 방향을 결정하는데 내부에서도 말이 많았을 것 같은데...

TSMC의 회사 규모를 생각해보면 소위 윗분들의 성과챙기기에 반대도 많았을 것 같고....

특히 아직 어떤 방식으로 Area 열화가 발생되었는지는 구체적으로 확인되지 않았지만...

만약 Design Rule에 영향을 주면서 이루어 진 거라면

정말로 과감한 결정이고

이루어진게 신기할 것 같습니다.

그런데 루머상이지만 결국 수율향상을 성공했다는 걸 보면 정말 대단한 것 같습니다.