최근 몇 년 동안 TSMC와 삼성은 반도체 공정에서 인텔을 추월했는데, 후자는 14nm 노드 이전에는 세계 최고의 반도체 회사였지만 10nm 노드에서 여러 가지 어려움에 직면하여 경쟁자들에게 기회를 주었습니다.

인텔은 이 과정에서 어떻게 추월당했나요? 펫 겔싱어 CEO는 최근 인터뷰에서 EUV 노광 공정에서 인텔의 선택 오류를 언급했습니다.

EUV 기술 개발에서 인텔은 전 세계적으로 중요한 프로모터이며, ASML의 EUV 노광기 개발도 인텔의 도움을 많이 받았지만 인텔은 10nm 노드에서 EUV 노광 대신 시도했습니다.새로운 SAQP 4중 노출 기술을 통해 EUV 리소그래피에 의존하지 않고도 첨단 공정을 생산하는 것이 목표입니다.

겔싱어는 당초 이 목표는 좋았지만 SAQP 노광 공정은 매우 복잡하고 비용이 많이 들었다며 시간이 지나면서 인텔은 EUV 오류의 편에 섰고 겔싱어는 당시 적어도 하나는 병행했어야 했다고 말했습니다.EUV 전략이 맞습니다.

겔싱어가 말한 이 일은 실제로 지난 몇 년 동안 인텔이 10nm 공정에서 여러 번 티켓을 발권한 핵심이며, 지난 2년 동안 10nm 공정의 양산을 완료하고 현재 인텔 7 공정으로 이름을 변경했습니다.

EUV 공정에 관해서는 인텔도 지금 중시하고 있습니다. ASML과 잘 협력하고 있습니다. 올해 말에 양산될 인텔 4 공정은 인텔의 첫 EUV 공정입니다. 14세대 Core 메테오레이크를 선발 양산할 때 사용합니다, 내년에 출시됩니다.

간단히 요약하면

EUV를 사용하지 않으려다 공정 로드맵이 박살 났었다고 합니다

현재 인텔 12세대, 13세대에 사용되는 인텔 7 공정은 EUV를 사용하지 않습니다

인텔의 첫 EUV 사용 공정은 인텔 4 공정입니다

인텔 4 공정을 사용하는 첫 세대는 14세대 메테오레이크 입니다

EUV까지 도입하니 메테오레이크는 성능 향상도 크지만 전성비 개선이 매우 크겠네요

실제로 인텔 공식 CPU 로드맵에서 메테오레이크는 저전력 전성비가 크게 개선된다고 나와있습니다