삼성전자가 극자외선(EUV) 기술로 5나노 공정 개발에 성공했다. 7나노 제품은 이달 출하, 6나노 제품은 설계를 완료해 올해 안에 양산한다. 초미세 공정에서 기술 리더십을 강화하겠다는 것이 삼성전자의 전략이다.삼성전자는 16일 EUV 기술 기반 5나노 공정을 개발했다고 밝혔다. 차세대 5나노 공정은 셀 설계를 최적화해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄였다. 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다. 특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP:Intellectual Property)을 활용할 수 있어


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