대만 반도체 제조 회사 TSMC의 회장 마크 리우는 차세대 극자외선(EUV) 리소그래피 장비 구매를 논의하기 위해 네덜란드 ASML을 방문했습니다.

이 장비는 1나노미터 공정과 같은 차세대 반도체 기술 개발을 위한 것이었습니다. 가격 협상은 결렬됐지만, ASML의 High NA EUV 장비 R&D 센터를 네덜란드에서 대만 신추로 이전하는 방안도 논의된 것으로 전해졌습니다.