NIL, EUV 대비 공정 복잡도, 비용, 소모 전력 축소 가능

캐논 CEO "새로운 기회와 수요를 창출할 것이라고 확신"

키옥시아, SK하이닉스 등 낸드 기업 NIL 양산 테스트 중

일본 캐논이 출시한 나노임프린트리소그래피시스템(NIL)에 대한 관심이 뜨겁다. ASML의 극자외선(EUV) 장비 시장 독점을 깰 수 있다는 전망이 나오면서다. 캐논의 NIL 장비는 기존 EUV나 극자외선(DUV)과 달리 웨이퍼 위에 전사하는 형태로 패턴을 만든다. 캐논은 NIL 장비를 통해 현재 5nm 공정 수준의 반도체 생산이 가능하며, 향후 2nm 구현도 가능하다고 전했다.