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소식 삼성전자·UNIST, 반도체 미세공정 한계 돌파 가능한 신소재 개발
- Aimer
- 조회 수 505
- 2020.06.25. 15:09
https://www.etnews.com/20200624000227?mc=em_001_00001
국내 연구진이 집적도가 높아져도 전기적 간섭이 덜 발생하는 반도체 신소재를 개발했다. 소자를 소형화할 수 있는 핵심 소재를 확보한 것으로 메모리 등 반도체 칩의 작동 속도를 '더 빠르게' 만들 수 있을 것으로 기대된다.
신현석 울산과학기술원(UNIST) 교수, 신현진 삼성전자 종합기술원 전문연구원 연구팀과 기초과학연구원(IBS)은 국제공동연구를 통해 '초저유전율 절연체'를 개발했다. 이번 연구결과는 네이처에 25일 0시(한국시간) 게재됐다.
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-NZXT H5 Flow (with Noctua NF-A12x25)
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댓글
상용화가 가능하다면 좋겠다는 희망을 가져봅니다..
저런건 상용화 과정에서 탈락되는 경우가 많아서;;;