인텔이 진정한 XX나노 발언을 하던 시절

PPA 중 A측면에서 자사의 10나노는 TR Density가 타사의 7나노 이상의 수준이라며 자신들의 노드 경쟁력을 이야기 했었죠.

다만 PP측면에 대한 이야기는 다소 조심스러웠던 것 같은데...

이번발표에서

TSMC N6를 사용한 Xe-HPG과

Intel 10SF를 사용한 Xe-LP를 비교합니다.

여러가지 요소들을 통해

클럭과 전성비측면에서 Xe-HPG가 Xe-LP대비 1.5배 상승하였다고 합니다.

물론 여러요소들의 모든 기여를 종합한 Gain으로

실제 TSMC N6가 Intel 10SF 대비 1.5배의 성능 향상이라는 이야기는 아니지만

요소 중 공정 기술이 직접적으로 언급 된 것을 보면

TSMC N6가 Intel 10SF 대비 PP측면에서 향상이 있는것은 분명해 보입니다.