일본 연구진은 EUV 리소그래피 기계의 대안으로 에너지 회수 선형(ERL) 가속기에서 생성된 자유 전자 레이저(FEL)를 칩 제조에 사용하는 방법을 모색하고 있습니다.

EUV 리소그래피는 현재 인텔, 삼성 파운드리, TSMC와 같은 주요 칩 제조업체에서 사용되는 방식입니다.

ERL 기반 접근 방식은 잠재적으로 수십 킬로와트의 EUV 전력을 비용 효율적으로 생산할 수 있습니다. 이에 따라 현재 ASML의 Twinscan NXE:5800E에 사용되는 500W EUV 광원에 비해 여러 리소그래피 머신에 동시에 전력을 공급할 수 있습니다.

새로운 ERL 시스템의 예상 구축 비용은 Twinscan NXE:3800E보다 높지만 연간 운영 비용은 더 낮을 것으로 예상되므로 장기적으로 비용 효율적인 옵션이 될 수 있습니다.

그러나 탐스하드웨어에 따르면 가속기의 큰 크기, EUV 방사선을 유도하기 위한 복잡한 거울의 필요성, 강력한 광원과 호환되는 레지스트와 펠리클의 부족 등 해결해야 할 몇 가지 과제가 있습니다.