궁금한게 현재 단계에서 euv 적용은 미래에 대한 대비보다 성능적 이점이 있나요?

파운드리도 euv 쓰니까 그냥 밀고 나가는거같은데 수율이 너무 흔들리는거 같아서요 

더 미세 공정으로 내려가려면 결국 EUV로 가야합니다. 지금 트슴이 핀펫으로 3까지 내려왔다가 그동안 삼성이 맞았던거 맞고 있는 것 같은 형국이 될 겁니다.

euv를 쓰는게 장기적으로 더 나은 원가경쟁력을 가질 수 있게되고

누설전류와 성능에도 도움이 되기 때문입니다. 

파장의 길이가 euv가 짧아서 더 미세하게 회로를 그릴수 있는데 이게 핵심이죠.

수율문제는 어쩔수없죠. 원래 선도하는 업체들이 제일 심하게 겪으니까요

선빵이 너무 아팠는지 1b 계획이 7 레이어 12.5nm였는데 중간에 5 레이어 12.8nm로 틀었다는 소리가 있네요

수율정상화부터가 중요하니까요. 기강 한번 다잡고 다시 달려도 타사들이 아직 못쫒아온다는....