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좌지우건

미니 TSMC N4, N5대비 실제 면적 축소확인

로직공정의 노드명은 마케팅 성격이 강해졌고

하프노드급 공정들 사이에서 실제로 면적 축소가 있냐 없냐 말이 많았습니다.

 

특히 최근에는 4나노 노드에서 그러한 논란이 많았는데..

 

퀄컴 SD8G1의 4나노

삼성 E2200의 4나노

미디어텍의 D9000의 4나노

퀄컴 SD8+G1의 4나노

 

다 4나노이지만 기존 각 파운드리의 5나노 공정대비 셀사이즈 축소여부는 논란이 있었는데...

 

이번 Techinsight에서 분석한 SD8+G1의 적용된 TSMC N4의 경우 실제로 N5대비 비트셀 축소(최소 4%)가 확인되었고 N5에서 optical shrink를 통한 진짜(?) 4나노 공정으로 확인되었습니다.

 

- SD8G1 다이샷 및 TEM 분석 (삼성 4LPX)

Figure1-Floorplan-SD8.jpg

Fig4-Crosssection-SD8+.jpg

 

- SD8+G1 다이샷 및 TEM 분석 (TSMC N4)

Figure2-Floorplan-SD8+-1.jpg

Fig3-Crosssection-SD8.jpg

 

댓글
3
흡혈귀왕
2등 흡혈귀왕
2022.10.14. 23:07

d6dfc0f65cfd528de374c5c6a4134959.jpg

오피셜 발표에선 N5 대비 6% 개선이라고 했는데

실질적으론 면적 이점은 4%인가보군요

[흡혈귀왕]님의 댓글을 신고합니다. 취소 신고
좌지우건
글쓴이
좌지우건 흡혈귀왕 님께
2022.10.14. 23:17

4%라는 수치는 어디까지나 특정 비트셀에서 확인된 최소의 값이에요.

 

전체적인 Gain 수치는 아닙니다.

[좌지우건]님의 댓글을 신고합니다. 취소 신고
흡혈귀왕
흡혈귀왕 좌지우건 님께
2022.10.14. 23:18

아하 그렇군요!

[흡혈귀왕]님의 댓글을 신고합니다. 취소 신고
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